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我们提供多种应用在触控面板制程用的光刻胶，也供应触控模组制程中的保护层
与绝缘层使用的光刻胶。其产品特性包括：在涂布均匀性及和基材间有良好的附着性，
较低的膜厚损失，较大的表面阻抗，以及较佳的去除性。
| 品名 |
用途 |
优点 |
| ENPD80 |
长效缓冲高浓缩水溶性无机碱显影液，主要搭配TP负光阻，提供良好的显影能力。 |
显影宽容度高/起泡性底/高浓缩溶液（因为浓缩碱液，在使用原液必须用去离子水以1:9稀释使用） |
| ENPD22 |
长效缓冲高浓缩水溶性无机碱显影液，主要搭配TP负光阻，提供良好的显影能力。 |
显影宽容度高/起泡性底/高浓缩溶液（因为浓缩碱液，在使用原液必须用去离子水以1:49稀释使用） |
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