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我们在半导体应用的产品有G-line与I-line等光刻胶，主要应用于晶圆代工产业的
黄光制程；此外，我们也提供一系列的相关产品，包括光刻胶的显影液等。基于关怀
顾客、共创价值的理念，永光将持续以无尘室生产技术及精密分析仪器确保产品品
质，为顾客提供更佳的服务效能。
| 品名 |
用途 |
优点 |
| EPG510 |
高解析度和耐热性佳的正型光阻剂，运用于积体电路的制造。 |
高解析度/附着性佳/耐热性佳/较大的制程宽容度。 |
| EPG535 |
具有高解析度和耐热性佳正型光阻，可适用于G-I线光源，运用于积体电路的制造。 |
高解析度/附着性佳/耐热性佳/较大的制程宽容度。 |
| EPG512 |
适用于积体电路的制造正型光阻 |
高敏感度/附着性佳/耐热性佳/较大的制程宽容度。 |
| EPG591 |
正型厚膜光阻，运用于光阻厚度10-30um之镀金及镀铜制程，可进行凸块或铜线路之制作。 |
耐化性佳/高粘度/附着性佳/电镀湿制程 |
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